《大連輕工硅酸鹽物理化學(xué)課件3章固溶體》由會(huì)員分享,可在線閱讀,更多相關(guān)《大連輕工硅酸鹽物理化學(xué)課件3章固溶體(28頁(yè)珍藏版)》請(qǐng)?jiān)谘b配圖網(wǎng)上搜索。
1、單擊此處編輯母版標(biāo)題樣式,單擊此處編輯母版文本樣式,第二級(jí),第三級(jí),第四級(jí),第五級(jí),*,*,*,定義,形成條件,:結(jié)構(gòu)類型相同,,化學(xué)性質(zhì)相似,,置換質(zhì)點(diǎn)大小相近。,第三章 固溶體,易于形成,按溶解度大小可分,為,:連續(xù)固溶體有限固溶體,形成史:(,1,)在晶體生長(zhǎng)過程中形成,(,2,)在熔體析晶時(shí)形成,(,3,)通過燒結(jié)過程的原子擴(kuò)散而形成,幾個(gè)概念區(qū)別,固溶體、化合物、混合物。,從熱力學(xué)角度分析,由,G,HT,S,關(guān)系式討論:,(1,),溶質(zhì)原子溶入溶劑晶格內(nèi),,使,H,大大提高,不能生成SS。,(2),溶質(zhì)原子溶入溶劑晶格內(nèi),大大地降低,H,,系統(tǒng)趨向于形成一個(gè)有序的新相,,即生成化合物
2、。,(3),溶質(zhì)原子溶入溶劑晶格內(nèi),H,沒有大的升高,,而使熵,S,增加,總的能量,G,下降或不升高,,生成固溶體,)。固溶后并不破壞原有晶體的結(jié)構(gòu)。,例如:,Al,2,O,3,晶體中溶入0.52,Wt%,的,Cr,3+,后,由剛玉轉(zhuǎn)變?yōu)橛屑す庑阅艿募t寶石;,PbTiO,3,和,PbZrO,3,固溶生成鋯鈦酸鉛壓電陶瓷,,廣泛應(yīng)用于電子、無損檢測(cè)、醫(yī)療等技術(shù)領(lǐng)域。,Si,3,N,4,和,Al,2,O,3,之間形成,sialon,固溶體應(yīng)用于高溫結(jié)構(gòu)材料等,。沙隆陶瓷性質(zhì)特點(diǎn):,高溫強(qiáng)度大,低溫強(qiáng)度小,工業(yè)玻璃析晶時(shí),,析出組成復(fù)雜的相都是簡(jiǎn)單化合物的,SS。,1、固溶體的分類,(1)按溶質(zhì)原子
3、在溶劑晶格中的,位置,劃分:,間隙型固溶體、換型固溶體,特點(diǎn),:形成間隙型固溶體,體積基本不變或略有膨脹,;,形成置換型固溶體后,體積應(yīng)比基質(zhì)大,。,(2)按溶質(zhì)原子在溶劑晶體中的,溶解度,分類:,連續(xù)型固溶體、有限型固溶體,特點(diǎn),:,對(duì)于,有限,型固溶體,溶質(zhì)在有限范圍內(nèi),溶解度隨,溫度升高而增加。,2.,形成置換固溶體的,條件和影響溶解度因素:,(1)離 子 大 小,(2)晶體的結(jié)構(gòu)類型,(3)離 子 電 價(jià),(4)電 負(fù) 性,2、置換型固溶體,(1)離子大小,相互取代的離子尺寸越接近,就越容易形成固溶體;,原子半徑相差越大,溶解度越小。,若以r,1,和r,2,分別代表溶劑或溶質(zhì)離子半徑,
4、則:,30%,不能形成固溶體,(2)晶體的結(jié)構(gòu)類型,形成連續(xù)固溶體,兩個(gè)組分應(yīng)具有,相同,的,晶體結(jié)構(gòu),或,化學(xué)式,類似。,MgO,和,NiO,、Al,2,O,3,和,Cr,2,O,3,、Mg,2,SiO,4,和,Fe,2,SiO,4,、,PbZrO,3,和,PbTiO,3,的,Zr,4+,(0.072nm),與,Ti,4+,(0.061nm),比值:,在石榴子石,Ca,3,Al,2,(SiO,4,),3,和,Ca,3,Fe,2,(SiO,4,),3,中,均為孤島狀結(jié)構(gòu),,Fe,3+,和,Al,3+,能形成連續(xù)置換,,因?yàn)樗鼈兊木О妊趸锎蟀吮?,結(jié)構(gòu)的寬容性提高。,Fe,2,O,3,和,Al
5、,2,O,3,(0.0645nm,和0.0535,nm),比值,:,雖然結(jié)構(gòu)同為剛玉型,但它們只能形成有限固溶體;,高溫立方相穩(wěn)定,所以為連續(xù)SS,TiO,2,和,SiO,2,結(jié)構(gòu)類型不同,不能形成連續(xù),SS,,但能形成有限的,SS。,在鈣鈦礦和尖晶石結(jié)構(gòu)中,,SS,特別易發(fā)生。它們的結(jié)構(gòu) 基本上是較小的陽離子占據(jù)在大離子的骨架的,空隙,里,只要保持,電中性,,只要這些陽離子的半徑在允許的界限內(nèi),,陽離子種類,無關(guān)緊要的。,(3)離子電價(jià),離子價(jià)相同或離子價(jià)態(tài)和相同,這形成連續(xù)固溶體。,例如,是,的B位取代。,復(fù)合鈣鈦礦型壓電陶瓷材料(,ABO,3,型)中,,是,的A位取代。,鈉長(zhǎng)石NaAlS
6、i,3,O,8,鈣長(zhǎng)石CaAl,2,Si,2,O,8,離子電價(jià)總和為+5價(jià):,(4)電負(fù)性,電負(fù)性相近有利于SS的形成,,電負(fù)性差別大趨向生成化合物。,Darken認(rèn)為電負(fù)性差,0.4 的,一般具有很大的固溶度,是固溶溶解度大小的一條邊界。,比離子半徑相對(duì)差15%的系統(tǒng)中,90%以上是不能生成SS的。,總之,對(duì)于氧化物系統(tǒng),SS的生成主要決定于離子尺寸與電價(jià)的因素,。,半徑差15%,電負(fù)性差0.4,橢圓內(nèi)65%,固溶度很大,外部85%固溶度,CaF,2,TiO,2,MgO,(2)保持結(jié)構(gòu)中的電中性,:,a.原子填隙,:例如,C在Fe,中間隙SS。,過渡元素,與C、B、N、Si等形成的硫化物、硼
7、化物、氮化物、硅化物等本質(zhì)是SS。在,金屬,結(jié)構(gòu)中,C、B、N、Si占據(jù)“四孔”和“八孔”,稱金屬硬質(zhì)材料,它們有高硬或超硬性能,熔點(diǎn)極高。,例如:HfC(碳化鉿)m,.,p=3890,TaN(氮化鉭)m,.,p=3090,HfB,2,(硼化鉿)m,.,p=3250,80%mol TaC+20%mol HfC m,.,p=3930,b.離子填隙,陽離子填隙,:,陰離子填隙,:,第三節(jié) 固溶體的研究方法,最基本的方法:用x射線結(jié)構(gòu)分析測(cè)定晶胞參數(shù),并測(cè)試SS的密度和光學(xué)性,能來判別SS的類型。,舉例:CaO加到ZrO,2,中,在1600該固溶體為立方螢石結(jié)構(gòu)。經(jīng)x射線分析測(cè)定,當(dāng)溶入,0.15,
8、分子CaO時(shí)晶胞參數(shù)a=0.513nm,實(shí)驗(yàn)測(cè)定的密度值D5.477g/cm,3,解:,從滿足電中性要求考慮,可以寫出兩種固溶方式:,如何確定其固溶方式?,實(shí)測(cè)D5.477 g/cm,3,接近d,計(jì)算2,說明方程(2)合理,,固溶體化學(xué)式 :,Zr,0.85,Ca,0.15,O,1.85,為氧空位型固溶體。,附:,當(dāng)溫度在1800急冷后所測(cè)的D和d,計(jì)算,比較,發(fā)現(xiàn)該固溶體為陽離子填隙形式,而且缺陷類型隨著CaO溶入量或固溶體的組成發(fā)生明顯的變化。,本章小結(jié):,1、缺陷的分類,點(diǎn)缺陷,熱缺陷(Frankel缺陷和Schttyq缺陷)雜質(zhì)缺陷,2、書寫缺陷反應(yīng)式應(yīng)遵循的原則。,3、缺陷濃度計(jì)算。
9、,4、固溶體的分類及形成條件。,5、研究固溶體的方法。,定義:,把原子或離子的比例不成簡(jiǎn)單整數(shù)比或固定,的比例關(guān)系的 化合物稱為非化學(xué)計(jì)量化合,物。,實(shí)質(zhì):,同一種元素的高價(jià)態(tài)與低價(jià)態(tài)離子之間的置,換型固溶體。,例 :,方鐵礦只有一個(gè)近似的組成Fe,0.95,O,它的結(jié),構(gòu)中總是有陽 離子空位存在,為保持結(jié)構(gòu)電,中性,每形成一個(gè) ,必須有2個(gè)Fe,2+,轉(zhuǎn)變,為Fe,3+,。,第四節(jié) 非化學(xué)計(jì)量化合物,非化學(xué)計(jì)量化合物可分為,四種類型,:,陽離子填隙型,陰離子間隙型,陽離子空位型,陰離子缺位型,TiO,2,晶體在缺O(jiān),2,條件,下,,在晶體中會(huì)出現(xiàn)氧空位。缺氧的TiO,2,可以看作T,i,4+
10、,和Ti,3+,氧化物的SS,缺陷反應(yīng)為:,Ti,4+,+e,Ti,3+,電子,e,并不固定在一個(gè)特定的Ti,4+,上,可把,e,看作 在,負(fù)離子空位周圍。因?yàn)?是帶正電的,在電場(chǎng)作用下,e,可以 遷,移,形成電子導(dǎo)電,易形成,色心,。(NaCl在Na蒸汽下加熱呈黃色,氧分壓與空位濃度關(guān)系,:,色心的形成:,1、陰離子缺位型,TiO,2x,F-色心的形成,實(shí)質(zhì),:一個(gè)鹵素負(fù)離子空位加上一個(gè)被束縛,在其庫(kù)侖場(chǎng)中帶電子。,-+-+-,+-+-+,+-+-+,-+-+-,-+-+-,2、陽離子填隙型,Zn,1+x,O,ZnO 在Zn蒸汽中加熱,顏色加深,缺陷反應(yīng)為:,3、陰離子間隙型,很少,只有UO,2+x,可以看作U,3,O,8,(2UO,3,.UO,2,)在UO,2,中的SS。,由于結(jié)構(gòu)中有間隙陰離子,為保持電中性,結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)電子,空穴,反應(yīng)式為:,同樣,也不局限于特定的正離子,它在電場(chǎng)下運(yùn)動(dòng),所以是P型半導(dǎo)體。,為了保持電中性在正離子空位周圍捕獲,是P型半導(dǎo)體。缺陷反應(yīng)為:,為保持電中性,兩個(gè),綜上所述,,,非化學(xué)計(jì)量化合物組成與缺陷濃度有關(guān),并與氧分壓有關(guān),或與氣氛有關(guān)。,4、陽離子空位型,如Fe,1x,O ,Cu,2x,O,V-色心的形成,實(shí)質(zhì),:金屬正離子空位加上相應(yīng)個(gè)數(shù)被束縛,在其庫(kù)侖場(chǎng)中帶正電的電子空穴。,-+-+-,+-+-+,+-+-+,-+-+-,-+-+-,