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1、去 除 磷 硅 玻 璃 2 v在擴散過程中發(fā)生如下反應：v POCl3分解產生的P2O5淀積在硅片表面， P2O5與Si反應生成SiO2和磷原子：v這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2，稱之為磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃？ PSiOSiOP 4552 252 3 2 2 5 24 5 2 6PCl O PO Cl 3 磷硅玻璃的去除v氫氟酸是無色透明的液體，具有較弱的酸性、易揮發(fā)性和很強的腐蝕性。但氫氟酸具有一個很重要的特性是它能夠溶解二氧化硅，因此不能裝在玻璃瓶中。v在半導體生產清洗和腐蝕工藝中，主要就利用氫氟酸的這一特性來去除硅片表面的二氧化硅層。 4 v氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫

2、氟酸能與二氧化硅作用生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。v若氫氟酸過量，反應生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸。v總反應式為：O2HSiF4HFSiO 242 SiFH2HFSiF 624 O2HSiFH6HFSiO 2622 5 去除磷硅玻璃工藝清洗液配制裝片開機投片清洗甩干 6 清洗液配制v將各槽中破損硅片等雜質清除，用去離子水將各槽壁沖洗干凈。v1號槽中注入一半深度的去離子水，加入氫氟酸，再注入去離子水至溢流口下邊緣。v向后面的槽中注滿去離子水。 7 裝片v經等離子刻蝕過的硅片，檢驗合格后插入承片盒。v注意，經過磷擴散處理的表面，刻蝕之后硅片在插入承片盒時也嚴格規(guī)定了放置方向。每盒25片，扣好壓條，投入清洗設備。 8 注意事項v在配制氫氟酸溶液時，要穿好防護服，戴好防護手套和防毒面具。v不得用手直接接觸硅片和承載盒。v當硅片在1號槽氫氟酸溶液中時，不得打開設備照明，防止硅片被染色。v硅片在兩個槽中的停留時間不得超過設定時間，防止硅片被氧化。 9 檢驗標準v當硅片從1號槽氫氟酸中提起時，觀察其表面是否脫水，如果脫水，則表明磷硅玻璃已去除干凈；如果表面還沾有水珠，則表明磷硅玻璃未被去除干凈。v甩干后，抽取兩片硅片，在燈光下目測：表面干燥，無水跡及其它污點。