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1、精密分析儀器簡介 掃描電子顯微鏡—能譜儀（SEM－EDS） 儀器型號：SEM：JSM－5600LV； EDS：IE 300 X 生產(chǎn)廠家：SEM：日本JEOL；EDS：英國Oxford 主要配置： SEM：二次電子探測器，背散射電子探測器；EDS：Si(Li)超薄窗；X射線探測器，全數(shù)字化脈沖處理器；噴金儀，噴碳儀。 主要技術(shù)指標(biāo)： l SEM：高真空分辨率3.5nm，低真空分辨率4.5nm; l SEM: 放大倍數(shù)范圍18-300,000； l EDS：Mn的Kα處的分辨率優(yōu)于132eV；可測元素范圍4Be-92U。 主要用途： 固體樣品表面微區(qū)形貌觀察；

2、 材料斷口形貌及其內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析； 微粒或纖維形狀觀察及其尺寸分析； 固體樣品表面微區(qū)成分的定性和半定量分析。 透射電子顯微鏡（TEM） 儀器型號：H－800 生產(chǎn)廠家：日本Hitachi 主要配置： SEM探測器，STEM探測器，真空鍍膜儀，超薄切片機。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 分辨率：可傾動角25時，晶格分辨0.204 nm，點間距0.45 nm； l 放大倍數(shù)：電子圖象：1000 ～ 6105（30檔可調(diào)），選區(qū)圖象：1000～3105（25檔可調(diào)）； l 加速電壓：200 kV、175kV、150kV、100kV、75kV。 主要用途： 分析金屬材

3、料的晶體缺陷、晶界、相界等微結(jié)構(gòu)； 分析高分子材料及其復(fù)合材料的形態(tài)結(jié)構(gòu)； 微粒形狀觀察及其尺寸分析； 染色體、核糖體、蛋白質(zhì)、血紅蛋白、細菌等的形狀觀察。 掃描探針顯微鏡（SPM） 儀器型號：NanoScope Ⅳ 生產(chǎn)廠家：美國Veeco 主要配置： 接觸模式、輕敲模式；靜電力模式、磁力模式、掃描隧道模式、摩擦力模式；配有液體樣品池，可用于分析液體環(huán)境中的樣品；加熱臺，控溫范圍：室溫～250℃。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 最大平面掃描范圍：125 μm 125 μm； l 最大垂直掃描范圍：2.5 μm； l 最高水平分辨率：0.1 nm

4、； l 最高垂直分辨率：0.01 nm。 主要用途： 材料表面形貌、相組成分析； 材料表面各種缺陷、污染情況分析； 材料表面力性能研究； 材料表面電、磁性能研究。 X射線衍射儀（XRD） 儀器型號：D/Max-2550 PC 生產(chǎn)廠家：日本RIGAKU 主要配置： 銅靶，自動可變狹縫系統(tǒng)，全自動彎（平）晶石墨單色儀；纖維取向度測試附件，變溫附件；JADE軟件包（可用于物相定性分析，晶粒大小和晶胞畸變的測定，結(jié)晶度測定，點陣參數(shù)精密化等）。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 最大輸出功率：18kW； l 2q角測量范圍：0.5～145； l 2q角測量準(zhǔn)確

5、性： 0.01； l 測試溫度范圍：室溫～15000C。 主要用途： 物相定性或定量分析； 晶體結(jié)構(gòu)的分析； 結(jié)晶度測定（多峰分離法）； 晶粒取向度測定； 材料物相隨溫度變化的研究。 高級旋轉(zhuǎn)流變系統(tǒng)（ARES） 儀器型號：ARES－RFS 生產(chǎn)廠家：美國TA 主要配置： 各種規(guī)格的錐板夾具、平板夾具以及同心圓筒夾具，固體扭擺夾具；強制空氣對流爐（室溫～6000C），恒溫水浴（－100C～700C）；電流變附件，介電附件，熔體拉伸粘度附件；壓片制樣機，氮氣發(fā)生器。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 震蕩頻率范圍：10-4－30Hz； l 應(yīng)變振

6、幅：5μrad-500mrad； l 扭矩范圍：0.2μN.m-100mN.m； l 法向力測量范圍：0.01-20N。 主要用途： 測定熱塑性聚合物熔體的穩(wěn)態(tài)和動態(tài)流變學(xué)參數(shù)； 測定聚合物溶液以及其它低粘度流體的流變學(xué)參數(shù)；； 測定電流變液的電流變性能； 測定聚合物的介電性能。 靜態(tài)/動態(tài)激光光散射儀（SLLS/DLLS） 儀器型號：BI-200SM 生產(chǎn)廠家：美國Brookhaven 主要配置： 50mW固體激光器（波長532nm），測角儀（測角范圍：80～1620），光電倍增管檢測器，采用互相關(guān)技術(shù)的相關(guān)器；dn/dc值測定

7、儀，外循環(huán)溫控系統(tǒng)。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 聚合物重均分子量（Mw）測量范圍： 500～108 Daltons； l 膠體粒子水動力學(xué)直徑（DH）測量范圍：1～5000nm； l 聚合物均方根旋轉(zhuǎn)半徑（Rg）測量范圍：10～1000nm； l 測量溫度范圍：4～800C。 主要用途： 測定膠束、膠體粒子的大小及其分布； 測定聚合物重均分子量； 研究聚合物溶液中分子鏈的構(gòu)象及其與溶劑分子之間的相互作用； 研究蛋白質(zhì)、多糖分子的構(gòu)象及其聚集過程。 凝膠滲透色譜－光散射聯(lián)用儀（GPC－LS） 儀器型號：BI-MwA 生產(chǎn)廠家：GPC

8、：美國Waters，LS：美國Brookhaven 主要配置： 高壓梯度泵，手動進樣器，Styragel系列色譜柱，多角度光散射儀，CCD檢測器。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 流動相（四氫呋喃）流速范圍:0.001-10.000ml/mim； l 聚合物重均分子量（Mw）測量范圍： 500～108 Daltons； l 聚合物均方根旋轉(zhuǎn)半徑（Rg）測量范圍：10～1000nm； l 測量溫度范圍：室溫～500C。 主要用途： 測定能溶于四氫呋喃的聚合物的絕對分子量及其分布。 核磁共振波譜儀（NMR） 儀器型號：Avance 40

9、0 生產(chǎn)廠家：瑞士Bruker 主要配置： Φ5mm寬帶多核探頭，Φ5mm1 H/13C反相探頭，固體探頭及其附件，PFG Accessory梯度場附件，變溫附件。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 超導(dǎo)磁體：9.4T， 對1 H共振頻率為400MHz； l 多核探頭（31 P-15 N，19F）：1 H 分辨率：0.32Hz，1 H靈敏度：366∶1； l 反相探頭（1 H優(yōu)化）: 1 H 分辨率：0.42Hz，1 H靈敏度：611∶1。 l 固體寬帶探頭：13C分辨率3.7Hz，13C靈敏度：49∶1； 主要用途： 有機化合物和天然產(chǎn)物分子結(jié)構(gòu)分析； 高分子鏈結(jié)構(gòu)分析；

10、研究高分子材料聚集態(tài)結(jié)構(gòu)及其高分子鏈的運動行為； 研究高分子鏈之間的相互作用以及共混高分子的相容性等。 傅里葉紅外-拉曼光譜儀(FTIR-Raman) 儀器型號：NEXUS－670 生產(chǎn)廠家：美國Nicolet 主要配置： 衰減全反射光譜（ATR）附件，反射吸收光譜（RA）附件，變溫附件（溫度范圍：室溫～400℃）,偏振附件；Hummel Polymer and Additives 譜庫。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 紅外光譜頻率范圍：7400～350cm-1； l 拉曼光譜頻率范圍：3600～100cm-1； l 紅外光譜最高分辨率：0.09cm-1

11、； l 拉曼光譜最高分辨率：0.8 cm-1。 主要用途： 小分子化合物結(jié)構(gòu)分析； 高分子鏈結(jié)構(gòu)分析； 高分子材料聚集態(tài)結(jié)構(gòu)的研究； 分子之間相互作用的研究。 氣相色譜－質(zhì)譜聯(lián)用儀（GC－MS） 儀器型號：QP－2010 生產(chǎn)廠家：日本Shimadzu 主要配置： 裂解器，直接進樣器,自動進樣器，EI源，CI源，四極桿質(zhì)量檢測器；NIST 譜庫，聚合物熱裂解譜庫；固相微萃取裝置。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 質(zhì)量范圍（m/z）：1.5～1024； l 分辨率：2M； l 靈敏度（EI源，1pg八氟萘）：S/N≥60； l 裂解溫度

12、范圍：350-750℃。 主要用途： 有機化合物結(jié)構(gòu)分析； 有機化合物成分分析； 環(huán)境樣品分析 高分子鏈結(jié)構(gòu)分析； 高分子熱降解機理研究。 紫外－可見光譜儀（UV－Vis） 儀器型號：Lambda 35 生產(chǎn)廠家：美國PerkinElmer 主要配置： Φ60mm積分球，60固定角反射附件，可變角透射附件，固體樣品架，變溫附件（溫度范圍：0 ℃ ～ 100 ℃ ，控溫精度： 0.1 ℃）。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 波長范圍：190～1100nm； l 波長精度：0.1nm； l 雜散光：<0.01 ％ T； l 線性范圍：3

13、.5A。 主要用途： 小分子化合物結(jié)構(gòu)分析； 小分子化合物成分分析； 薄膜樣品的透射分析； 溶液、乳液或固體粉末樣品的反射與透射分析。 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP） 儀器型號：Prodigy 生產(chǎn)廠家：美國Leeman 主要配置： 自激式高頻發(fā)生器，高分辨中階梯光柵，垂直和水平觀測系統(tǒng)，CID固體檢測器；微波消解系統(tǒng)。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 波長范圍：165-800nm； l 分辨率：≤0.005nm(As在200nm處)； l 精密度（RSD）(n=10)：< 1.0%； l 檢出限（典型元素As、Cd、Cu、

14、Zn）：< 0.01mg/L 主要用途： 可測定無機或有機樣品中Cu、Pb、Cd、Cr、Ni、Zn、As、Fe、Bi、Ca、P、K、Mg、Al、Si、Sc、Sn、Mn、Zr、Ag、Sn、Sb、Ba等70多種金屬和非金屬元素的含量。 元素分析儀（EA） 儀器型號：Vario EL Ⅲ 生產(chǎn)廠家：德國Elmentar 主要配置： 高溫燃燒爐，吸附-解吸裝置，熱導(dǎo)檢測器，O元素分析模塊；靈敏度為0.001mg的電子天平，自動進樣器，液體樣品裝樣器。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 分析模式包括：CHNS，CHN，CNS，CN，N，S，O； l 樣品量

15、：0.02－800mg； l 分析結(jié)果準(zhǔn)確度（C、H、N、O、S）：≤0.3%（He作載氣）； l 分析結(jié)果精密度（C、H、N、O、S）：≤0.1%（He作載氣）。 主要用途： 分析有機樣品中的C、H、N、O、S元素的含量。 輝光放電光譜儀（GDS） 儀器型號：JY Profiler 生產(chǎn)廠家：法國JY 主要配置： 脈沖式RF輝光光源，離子刻蝕全息閃耀光柵，高動態(tài)范圍檢測器；磨片制樣機；鑄鐵基體（灰口、白口、高Cr）工作曲線，鋼基體（碳鋼、低合金鋼、不銹鋼）工作曲線，鍍層或涂層（WC、熱處理、Cr-Ni合金鍍層、鍍鋁、彩涂）工作曲線。 主要技術(shù)指標(biāo)： l 光譜范圍：110nm—620nm； l 光譜分辨率：0.02nm； l 深度分辨率：≤2nm； l 可分析的元素：C、Cr、Mn、Si、Mo、Fe、B、S、P、Ni、Ti、W、Co、V、Al、H、O、N、Cl、Cu、Pb、Sn、Mg。 主要用途： 導(dǎo)電材料和非導(dǎo)電材料的基體、鍍層（涂層）中的化學(xué)元素含量分析； 熱處理工件（滲碳、滲氮）等的元素深度定量分析； 導(dǎo)電材料表面覆蓋有一層或多層導(dǎo)電或不導(dǎo)電鍍層（涂層）中化學(xué)元素的分析； 非導(dǎo)體材料表面覆蓋有一層或多層導(dǎo)電或不導(dǎo)電鍍層（涂層）中化學(xué)元素的分析。 15